為什么要測量烴露點？

烴露點（HCDP）是天然氣中的一項重要測量，可確保天然氣質量和安全操作條件，并保持處理和配送系統(tǒng)的效率。

HCDP有時被稱為“液體烴"，表示當烴冷凝物開始形成時，天然氣從氣相進入混合相的溫度。該參數受壓力和成分的影響，因此氣體混合物中重烴的比例越高，HCDP就會越高。每種氣體成分都有其獨特的烴露點溫度和壓力關系，可以將其描述為相包絡上的露點線曲線（見下圖）。臨界凝析溫度是在壓力X下氣體開始凝析出液體的溫度。當天然氣處理將臨界凝析溫度保持在管道低工作溫度以下時，無論壓力變化如何，氣流都不含有液態(tài)烴。

                   

如果允許這些重烴成分在過程中的任何時候冷凝成液體，它們可能會產生幾個問題：

• 管道腐蝕和配送系統(tǒng)含有液體成為細菌腐蝕的滋生地

• 高速沖擊導致壓縮機葉片損壞

• 烴冷凝物對燃氣輪機燃燒器和葉片的損壞會導致更熱、更長的火焰

• 天然氣不符合合同質量的風險，可能導致氣體不被接收




從生產/分銷停工到設備故障，上述所有情況都可能帶來很大的財務影響。

什么是貧氣？

當天然氣主要由甲烷或乙烷組成，并且不含富天然氣中正常濃度的重烴時，天然氣被描述為貧氣。因此，它具有較低的熱值和明顯較低的烴露點。

低的烴露點降低了系統(tǒng)中形成烴液體的風險，但在過程故障條件下，烴露點可能會上升，因此測量仍然是一項重要要求。

   

                   




為什么在貧氣中測量烴露點比較困難？

測量烴露點的主要儀器是冷鏡。該設備的工作原理是降低鏡面溫度，直到烴液體開始在鏡面上形成。烴露點可由熟練的操作員通過視覺或PST 密析爾的 Condumax II等自動化光學器件確定。

測量非常低的烴露點面臨一個特別的挑戰(zhàn)：使鏡面溫度足夠低。當儀器達到其冷卻能力極限而鏡子上沒有形成任何烴冷凝時，就無法進行測量。

PST提供的解決方案

Condumax II的鏡面溫度可下降約55℃，有一些測量選項可選。監(jiān)測烴露點非常重要，以防過程進入故障狀態(tài)，且成分中出現重烴。

在正常情況下，當測量階段開始時，鏡面溫度將降至低冷卻溫度，而沒有達到觸發(fā)點，將顯示消息“HCdp低于冷卻極限"，表示氣體處于它的正常狀態(tài)。通過對鏡面溫度設置低冷卻極限，帕爾貼熱泵在每個測量周期內都不會滿負荷工作，從而延長了其壽命。

如果發(fā)生氣體成分故障，例如NGL分餾過程中的故障，則在測量階段不會出現消息“HCdp低于冷卻極限"。相反，將記錄HCDP測量值。這將提醒工程師或集散控制系統(tǒng)（DCS）及時識別問題并采取適當行動。

我們專注于濕度和露點測量，擁有適用于各應用中的不同濕度監(jiān)測技術，提供很好的技術和應用支持。